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サファイア（a-Al2O3）は、化学的安定性・熱伝導性・機械的強度に優れ、紫外〜赤外光領域で高い透明性を示す材料として
広く用いられています。 並木では、EFG法を採用し、サファイアの結晶育成から研磨、加工まで一貫して生産しています。
広く用いられています。 並木では、EFG法を採用し、サファイアの結晶育成から研磨、加工まで一貫して生産しています。
精密研磨されたサファイア基板の表面に、様々なナノステップ構造を規則的になるよう熱処理、研磨し、ステップ基板を作りました。走査型プローブ顕微鏡（SPM： Scanning Probe Microscope）に用いる標準試料などの計測分野へのアプリケーションを検討しています。
1. 高硬度 ⇒ 優れた強度・耐摩耗性
2. 透明 ⇒ 紫外〜赤外光領域で透明(200〜7000nm) 光学利用可能 3. 耐食・耐熱性 ⇒ ほとんどの酸・アルカリに侵されない 〜2000℃ 4. 絶縁性を要求される場合でも使用可能 |
1. 大型のサファイア基板ができる。
2. 結晶方位をコントロールできる。 |
 サファイア基板 半導体用基板 LED基板 プロジェクター 光デバイス用基板 |
分析器 熱伝電体の保護管 |
並木では大口径で任意の断面形状が得られるEFG法を採用しています。
(Edge-defined Film-fed Growth Method)
(Edge-defined Film-fed Growth Method)
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断面図 |
寸法 |
精度 |
結晶方向 |
面精度 |
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0.3〜300mm
t=0.01〜100 |
±0.005 |
±2deg |
Ra=0.0001μm |
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0.3〜300mm |
±0.005 |
長さ方向C軸 |
5μm |
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外径：Max.Φ100mm |
±0.005 |
− |
5μm |
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内径：Min.Φ2.0mm |
±0.002 |
− |
5μm |
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どのような断面形状でも 対応いたします。 |
− |
長さ方向C軸 |
5μm |
関連特許： JPA2007-181007 |
 ・ 様々な環境（液中、高温下）で測定可能 ・ 低コスト（再クリーニングが可能） ・ パーティクル, 凹凸のほぼないテラス面 ・ 0.22〜10.0 nmの高さのそろったステップ構造 ・ テラス幅 約200 nm |
関連特許： JPA006-284316, JPA2007-181007 |
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 SPM装置の高さ校正用標準試料 ナノステップ表面上での生体試料観察・計測用プレート |
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